蒸鍍生產線

產品特點

真空過渡分為1000Pa、1Pa、10-4Pa三級,異于10Pa、10-4Pa兩級模式,最大優化羅茨泵在1000Pa~1Pa的抽氣效率,降低設備低真空段的泵組配置,減少設備能耗節約成本。

采用低溫泵在鍍膜前進行樣片運送時水汽的收集,抽氣效率高,對設備場地濕度要求降低,減少生產建設投資。

線性源采用一體化加熱及模塊化坩堝拼接設計,坩堝個體尺寸小具有極小的熱變形,坩堝位置可調節具有鍍膜均勻性調節的作用。

技術參數

設備型號ZDX-300(600、1200)
極限真空8×10-5Pa
腔室功能分類進、出樣室(1000Pa)
低真空過渡室(1Pa)
高真空過渡室(5×10-4Pa)
蒸鍍室(5×10-4Pa)
蒸發源類型線性源:室溫~700℃,水冷
蒸發距離120~300mm

技術參數

樣品幅寬300、600、1200mm
常用蒸發材料C60、BCP、LiF、PbI2、CsBr、Cu等
鍍膜節拍≥60s
連續運行時間≥300h
≥50h(C60、1A/s)
膜厚均勻性≤±5%
鍍膜速率穩定性≤±0.1A/s
鍍膜時樣品溫度≤60℃

技術優勢

針對電子傳輸層(C60)蒸發鍍膜設備
針對C60蒸發材料吸附氧、水汽對蒸鍍穩定性的影響,在鍍膜室進行預蒸發處理、深冷收集等處理,提高C60蒸鍍溫度穩定性,延長連續鍍膜時間。
線性源根據C60特性,蒸發口采用不遮擋方式,蒸發速率更快、減少冷凝載體面積、穩定性更好。

技術優勢

針對鈣鈦礦層共蒸發鍍膜設備
兼容2-3源共蒸發
共蒸發源具有2種工作模式,同步混合鍍膜,分層交替鍍膜,針對不同材料的物理特性具有更好的兼容性和共蒸發效果。
線性源mask具有多孔、狹縫、寬縫等多樣化結構方式,針對不同材料的物理特性能夠分別解決:樣品降溫、減少mask冷凝、蒸發效率調控、發散角調控等問題。
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